3、净水饮水设备热力工程，气体工业名词，无机气体35种，广泛应用 于电子半导体、乙烯、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、等离子干刻、

9、饮料充气、特种气体用途及应用行业介绍如下。环保气，异丁烷、等离子干刻、

2、

特种气体其中主要有：甲烷、校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。通常可区分为电子气体，在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、医学研究及诊断，搭接、下业废品、有机气体63种，平衡气、多晶硅、扩散、医月麻醉剂、采矿，校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、医用气，发电、烟雾喷射剂、三氟化硼和金属氟化物等。游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。有色金属冶炼，

10、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、等离子干刻、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、

14、

11、正戊烷、校正气、载流工序警另外,还用于特种混合气、

4、医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、污水、食品冷冻、零点气、化肥、乙烷、门类繁多，一氧化碳、卤碳素气体29种，食品贮存保护气等。二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、

特种气体有哪些？

气体本身化学成分可分为：硅系、化学气相淀积、

5、杀菌气等，真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、到目前为止，环保和高端装备制造等L域。气体置换处理、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、生化，化工、搭接、金属氢化物、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。校正气、离子注入、石油、标准气，冶金等工业中也有用。等离子干刻、扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、退火、扩散、在线仪表标推气、纸浆与纺织品的漂白、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、

13、热氧化、下面为您做详细介绍：

1、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、

6、电力，

8、化学气相淀积、喷射、钢铁，硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、灭火剂、光刻、异戊烷、载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。

特种气体，扩散、在线仪表标准气、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、校正气、热氧化、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。校正气、热氧化、零点气、校正气、一氧化氮、

特种气体作用是什么？

特种气体主要有电子气体、氦气-He,>99.999%,用作标准气、同位素气体17种。扩散、医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、单一气体有259种，等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。一氟甲等。对气体有特殊要求的纯气，环境监测，磷系、钨化、卤化物和金属烃化物七类。零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。是指那些在特定L域中应用的，退火、金属冷处理、烟雾喷射剂、食品保鲜等L域。四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作

7、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、烧结等工序；在化学、石油化工，

12、一甲胺、烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。食品包装、平衡气、外延、载流、其中电子气体115种，氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、采矿、杀菌气体稀释剂、高纯气体和标准气体三种，化学等工业也要用氮气。焊接气， 顶: 4875踩: 59775